化学气相沉积CVD
化学气相沉积（CVD）是一种在冶金和材料工程中广泛应用的技术，它通过在高温下将气态物质转化为固态薄膜，用于制造各种高性能材料。CVD技术在冶金行业中主要用于制备高纯度、高性能的金属和陶瓷涂层，这些涂层可以显著提高材料的耐磨性、耐腐蚀性和高温稳定性。
CVD设备主要由高真空获得与测量系统、反应石英管、管式电阻炉、气路系统及电气控制系统等五部分组成。高真空机组采用复合分子泵和机械泵组成，确保了极限真空度达到≤8.0×10^-5Pa，漏率≤10^-7Pa·L/s，为CVD过程提供了理想的高真空环境。管式电阻炉上开盖结构设计，方便装卸石英管，提高了操作的便捷性。
一、设备主要功能及组成
1.设备主要由高真空获得与测量系统、反应石英管、管式电阻炉、气路系统及电气控制系统等五部分组成。
2.高真空机组采用复合分子泵和机械泵组成。
3.管式电阻炉上开盖结构，方便装卸石英管。
4.多种工艺气体可选，气路系统定制。
5.电气控制系统具有多种报警功能，能及时提示故障情况，保障设备安全运行。
二、主要技术参数
1．石英炉管尺寸：Ø30×700（可定制）
2．极限真空度：≤8.0×10-5Pa
3．漏率：≤10-7Pa·L/s
4．最高加热温度：1100℃（可定制）
5．气路系统：定制（采用高精度MFC质量流量控制器）
6．供电电源：380V50Hz（三相五线制）
7．进水排管径：DN25
8．工作水压：0.2Mpa
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