桌面RTP快速退火炉
产品型号：CY-RTP1000-Φ150-400-T
简单介绍：
RTP快速退火炉由我公司自主研发的功能强大的加热设备。RTP快速退火炉采用进口红外线加热管加热，造型新颖结构合理，炉体和炉管可以自由滑动，可实现快速升降温。炉管内尺寸120MM，可以直接放下4英寸的材料。试样反应区处在一个密闭的石英腔体内，在完成生产工艺的同时，也大大降低了间接污染试样的可能性。
详情介绍：
RTP快速退火炉由我公司自主研发的功能强大的加热设备。该产品采用进口红外线加热管加热，造型新颖结构合理，炉体和炉管可以自由滑动，可实现快速升降温。炉管内尺寸120MM，可以直接放下4英寸的材料。试样反应区处在一个密闭的石英腔体内，在完成生产工艺的同时，也大大降低了间接污染试样的可能性。
主要功能和特点:
1、可视化7寸触摸屏，设定数据和操作都是图文界面，操作方便;
2、炉体配备高精度移动平台，运行平稳无抖动;
3、炉管可自由移动，且密封法兰之间用搭扣压紧连接，放、取物料方便快捷，避免了螺栓密封人为操作导致漏气的可能;减少了因安装法兰而造成加热管损坏的可能;当炉管移出炉膛时冷确风扇启动，可实现试样的迅速降温，满足材料骤冷骤热的实验要求;
4、炉膛采用进口多晶纤维真空吸附制成，采用进口红外线加热管加热，使用寿命可达5000小时，升温速度快，*高温度可达1050℃。
5、预留了真空、气路快速接口，可配合我司真空系统、混气系统使用;
6、预留了485转换接口，可通过我司专用软件，与计算机互联，可实现单台或者多台电炉的远程控制、实时追踪、历史记录、输出报表等功能;
7、设置超温报警并断电，漏电保护，操作可靠。
主要用途和适用范围:
用于半导体器件研发及生产等领域，可满足离子注入后的快速退火、欧姆接触快速合金、硅化物合金退火，氧化物生长以及
铜铟镓硒
光伏应用中的硒沉积等快速热处理工艺场合。
主要技术参数：
579 
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