VWF-25-21(2100度真空钨丝炉)
一、设备特点及主要用途
1、基本介绍：在真空或气氛保护情况下对物料进行无污染热处理的设备，本设备为周期作业式，按照用户要求定制。
VMF真空钨丝炉是一款专为高温材料处理设计的先进设备，采用高纯钨网加热元件，具备智能PID控温功能，实现精准温度控制。配备高效真空系统，确保在极限真空环境下稳定运行，适用于各种高温真空实验和材料制备。
设备还支持远程监控与操作，方便用户实时掌控工作状态，提升实验效率与安全性，是科研和工业应用的理想选择。
2、用途
1.材料科学研究：用于研究和开发新型高温材料，包括陶瓷、合金、和
复合材料等。
2.半导体制造：适合进行
半导体材料的热处理、烧结和退火工艺，确保精确的温控和洁净的真空环境。
3.高温热处理：广泛应用于各类金属和非金属材料的热处理过程，如钨、钼等高熔点材料的烧结和热处理。
4.高校与研究机构：为大学实验室和科研单位提供高温、真空环境下的材料制备和性能测试。
5.先进制造业：支持航空航天、电子元件及高科技制造行业的精密加工和材料热处理。
这些领域和应用充分利用了该设备的高温稳定性、真空性能和智能化控制优势，满足了高标准实验和生产需求。
二、结构组成
炉体、炉盖、炉底、真空系统、控制系统、冷却系统、发热体及隔热屏等。
三、结构说明
1、炉体：为立式炉壳，其内、外层均为304不锈钢做成的圆筒，外层镜面抛光处理。内外筒与前后法兰焊成一个整体，炉体开有电极孔、抽气孔、放气孔、热电偶孔、红外孔及观察孔等，各接口的材质均为不锈钢。
2、炉盖：由内外封头和法兰焊成，中间可通水冷却，炉盖开启装置。
3、炉底：由内外封头和法兰组成，中间通水冷却，下部设有充放气孔，固定在炉体下部，设有电极引出装置。
6、发热体及隔热屏：发热元件采用高纯钨制作成网状，有效增加辐射面积，保证温区的均匀性。隔热屏采用4层钨板，6层钼板，最外层采用不锈钢板支撑。
7、真空系统：
（1）主要由直联泵、分子泵，气动挡板阀、电磁截止阀、数显复合真空计、真空管路、放气阀、支架等组成；真空管道与泵之间采用金属波纹软管快速接头联接（减缓震动）。
（2）真空主抽泵直联泵（北仪优成）、分子泵（北科仪）。
（3）气动挡板阀（川北科技）GDQ-150 1台 GDQ-J40 2台
（4）成都正华数显真空计1台。
（5）真空管路1套，由波纹管、三通管、
真空泵、两个40的真空挡板阀、接口弯管等组成（波纹管内Φ40，三通管为40标准尺寸）。
8、控制系统：
采用英国欧陆仪表具有多项功能（3204）
A、5X16段程序控温，可以分成16组程序，如果分成5组程序，每条程序为20段，可以储存多组程序、使用时可以任意调出；
B、欧陆3204具有PID控制，温度能控制得很准确；
C、具有过温保护、过流保护和断偶时电炉加热电路自动切断等功能， ,（当电炉温度超过2120度或热电偶 烧断时，主电路上的交流继电器会自动断开，主电路断开，面板上ON灯熄灭，OFF灯亮，有效的保护电炉）
D、仪表有华氏度（F）和摄氏度（C）可供选择；
E、带有485 通讯接口，具有自动停机功能。
F、仪表精度为0.2级、液晶显示屏、自定义画面。
10、水冷系统：炉体、上下端盖采用夹层水冷的结构形式，在进出水主管路上安装水压继电器及压力表，同时与控制柜连接，异常状态时报警。能够定性的观察各分水路的水流大小。整个水冷系统确保各分路回水温度不高于40℃（进水温度20℃）。水冷系统主进直径50mm、回水管直径50mm（进水压力0.4MPa）。
四、设备安装要求
1、电力：380V，三相五线制，20KW，50Hz
2、冷却水：
耗量： 5m3/h
水压：1~0.4Mpa
进水水温： ≤40℃
接口尺寸： 2寸内丝连接
3、占地面积：1200mm（长）×700mm（宽）×1600mm（高）
五、核心优势
1.高效真空环境：真空系统保证洁净的高温处理环境
2.智能控制与远程监控：支持程序化操作与自动化控制
3.高校与科研机构：南京大学、清华大学等高校已应用于材料实验。
详细参数
665 
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