本发明是一种响应可见光彻底降解四环素的窄带光催化材料及制备方法。响应可见光彻底降解四环素的窄带光催化材料的成分为La
2‑xSr
xNiMnO
6（x=0.01‑0.20）。制备方法包括有如下步骤：1）将分析纯La
2O
3,MnO
2,SrO和无水乙醇混合，球磨后烘干；2）将烘干的粉末进行压制，压力是10MPa‑100MPa；3）将压制的块体在800℃‑1150℃烧结；4）将步骤3）烧结的块体进行球磨；5）将步骤4）中球磨的粉末再次压片，压力是10MPa‑100MPa；6）将步骤5）中压成的片再进行烧结，烧结温度是800℃‑1250℃；7）将步骤6）烧结后的片再进行球磨，得到所需粉末。本发明响应可见光彻底降解四环素的窄带光催化材料在可见光的照射下能彻底降解四环素至安全的矿物质。
声明：
“响应可见光彻底降解四环素的窄带光催化材料及制备方法” 该技术专利(论文)所有权利归属于技术(论文)所有人。仅供学习研究，如用于商业用途，请联系该技术所有人。
我是此专利(论文)的发明人(作者)
1148
编辑：管理员
来源：北方有色网
咨询细节
