本发明提供了一种低介电常数阻挡层工艺中的预处理的监控方法以及监控装置，该方法包括：检测进行了不同时间的预处理后的硅衬底的多个薄膜参数；根据所述多个薄膜参数建立统计过程控制曲线；设定预设有阈值的控制线；如果所述统计过程控制曲线的范围在所述阈值之内，则判定所述预处理正常；如果所述统计过程控制曲线的范围超出所述阈值，则判定所述预处理不正常。本发明可有效预防预处理工艺的失效，从而提高产品的可靠性与稳定性。
声明：
“低介电常数阻挡层工艺中的预处理的监控方法及装置” 该技术专利(论文)所有权利归属于技术(论文)所有人。仅供学习研究，如用于商业用途，请联系该技术所有人。
我是此专利(论文)的发明人(作者)
1110
编辑：管理员
来源：北方有色网
咨询细节
