本发明提供一种用于透射电子显微镜俯视观察的
芯片样品制备方法，包括：提供待测样品，在待测样品的顶面沉积第一保护层，使第一保护层覆盖以与待分析目标相垂直对应的待测样品的顶面部分为中心扩展的矩形区域；在第一保护层的四个顶角以及四条边缘的中心位置沉积呈正方形的第二保护层；沉积第三保护层，以完全覆盖第二保护层和第一保护层；去除位于第一保护层所覆盖的部分之外的待测样品，使待测样品的两个相平行的侧面的下部呈倒三角形；将待测样品的下部呈倒三角形的两个侧面之一附着于支撑台上；通过精磨去除第三保护层、第二保护层和第一保护层。根据本发明，可以将制备样品的时间控制在1小时之内，不会损伤待测样品中出现失效的部分。
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“用于透射电子显微镜俯视观察的芯片样品制备方法” 该技术专利(论文)所有权利归属于技术(论文)所有人。仅供学习研究，如用于商业用途，请联系该技术所有人。
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来源：北方有色网
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