本申请提供了一种光罩以及光罩或晶圆沾污的检测方法。该光罩包括版图，版图包括对准标记，对准标记的个数不少于三个。在进行晶圆的光刻时，光刻机根据不少于三个的对准标记处的光罩膨胀系数与光罩旋转系数计算出晶圆的光罩膨胀系数与光罩旋转系数，这样得出的晶圆的光罩膨胀系数与光罩旋转系数更加准确，能够及时、灵敏地反应出晶圆或光罩的沾污问题，进而避免了由于沾污造成器件失效需要返工的问题，提高了器件的产率及良率。
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“光罩以及光罩或晶圆沾污的检测方法” 该技术专利(论文)所有权利归属于技术(论文)所有人。仅供学习研究，如用于商业用途，请联系该技术所有人。
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编辑：管理员
来源：北方有色网
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