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半导体器件缺陷的光学检测方法

829   编辑:管理员   来源:北方有色网  
2023-03-19 08:59:59
本发明公开了一种半导体器件缺陷的光学检测方法,根据二维图形中器件的电路特征,对器件结构进行准确分类,并确定每个器件结构的位置信息,随后利用这些信息,在缺陷检测过程中对应到检测区域,以快速、准确获得检测区域内不同器件结构缺陷类型的数量及每个缺陷的具体位置,以便于对器件失效及其形成原因进行判断和准确分析。
声明:
“半导体器件缺陷的光学检测方法” 该技术专利(论文)所有权利归属于技术(论文)所有人。仅供学习研究,如用于商业用途,请联系该技术所有人。
我是此专利(论文)的发明人(作者)
         
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