本发明提供的用于判定GOX击穿失效的样品制备方法，其在对隔绝氧化层进行机械研磨后使用BOE溶液腐蚀去除
多晶硅层上剩余隔绝氧化层，降低了研磨处理伤害样品的风险，提高了样品处理的成功率；使得多晶硅层厚度均匀，便于后续步骤的控制；可以实现剩余隔离氧化层的完全去除，使得多晶硅层表面无氧化物残留，保证了样品的洁净度，使得SEM观察无干扰。同时采用新型高腐蚀选择比的碱性溶液腐蚀去除多晶硅层，由于腐蚀选择比高，腐蚀时间延长，使得腐蚀过程易于控制，最终可以呈现一个均匀、完整、洁净的GOX用于SEM进行全方位观察，大幅提高了击穿点观测的成功率和精确度。
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来源：北方有色网
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