本发明提供一种微通道板通道内壁制备中子敏感膜层的方法，包括：采用原子层沉积技术，使用有机硼前驱体和臭氧或氧等离子体作为两种反应物通过化学反应生成10B2O3膜层；反应产物除了沉积于通道内壁的10B2O3膜层之外，还有胺类及有机气体，无对MCP基底有害的卤化氢气体，因此沉积膜层整体质量较高；通过制备中子敏感膜层的形式，比通过均匀掺杂在MCP基底玻璃中，探测效率可以达到更高的水平。
声明：
“微通道板通道内壁制备中子敏感膜层的方法” 该技术专利(论文)所有权利归属于技术(论文)所有人。仅供学习研究，如用于商业用途，请联系该技术所有人。
我是此专利(论文)的发明人(作者)
982
编辑：管理员
来源：北方有色网
咨询细节
