本发明的目的是提供放射线敏感性组合物等,该组合物能够形成化学增幅型正型抗蚀剂膜,该膜能有效感应活性光线或放射线、纳米边缘粗糙度和灵敏度优异、可高精度且稳定地形成微细图案。本发明的组合物包含含酸解离性基团的聚合物(A)、和酸产生剂(B),所述含酸解离性基团的聚合物(A)为碱不溶性或难溶性且通过酸的作用成为碱易溶性,作为聚合物(A),包含含有式(1)的重复单元且以GPC测定的重均分子量为3000～100000的聚合物。式(1)中,R1表示氢原子或甲基,R2表示取代或无取代的碳原子数为1～20的直链状或支链状的1价烷基、碳原子数为3～25的脂环式基团或碳原子数为6～22的芳基,X表示取代或无取代的亚甲基或碳原子数2～25的取代或无取代的直链状、支链状或脂环式的烃基。
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来源：北方有色网
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