本发明涉及一种锑化铟单晶片的抛光方法，属于光电材料技术领域。所述方法对锑化铟单晶片抛光过程中精抛溶液的配方进行设计，利用精抛溶液的化学作用，配合精密抛光机中抛光盘的机械作用，通过严格控制转速、压力以及精抛溶液的滴速，进行锑化铟单晶片的超精密平整化加工，实现抛光后的锑化铟单晶片的完美晶格，能够有效避免现有技术中抛光加工所造成的二次缺陷，弥补了锑化铟单晶片精密加工领域的空白。采用本发明所述抛光方法加工的锑化铟单晶片，由于晶格完美，因此利用其制备的红外探测器的成品率有长足的进步，且大大拓宽了锑化铟单晶片在红外探测器上的应用。
声明：
“锑化铟单晶片的抛光方法” 该技术专利(论文)所有权利归属于技术(论文)所有人。仅供学习研究，如用于商业用途，请联系该技术所有人。
我是此专利(论文)的发明人(作者)
1124
编辑：管理员
来源：北方有色网
咨询细节
