本发明关于一种清洗沉积喷出头的方法与设备,可应用于半导体的化学气相沉积机台中,藉由机台抽真空以除去沉积喷出头的外盖与其表面的尘粒;再将沉积喷出头的外盖与沉积喷出头由机台上拆下,并清除机台上用以装载沉积喷出头的区域表面的尘粒;将沉积喷出头浸入化学反应槽以超音波震荡;将沉积喷出头浸入溢流的水槽,并监测水阻值;将沉积喷出头浸入回流的异丙醇槽;之后以烘干系统烘干沉积喷出头;以完成清洗沉积喷出头的程序。
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来源：北方有色网
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