本实用新型公开了一种真空气相沉积反应室，包括：腔室；转盘，绕自身轴线可转动地设置在腔室内，转盘上设置有基片；反应气体喷头，设置在腔室的内顶壁上，用于朝向转盘喷射反应气体；导流机构，包括导流板，导流板沿第一方向可相对转盘的侧壁移动地设置在腔室内；控制机构，用于检测对基片处理过程中腔室内的反应环境，并根据反应环境控制导流板相对转盘的侧壁移动以调节导流板与转盘的侧壁之间的间隙大小。本实用新型通过控制导流板相对转盘的侧壁移动以调节导流板与转盘的侧壁之间的间隙大小，从而可以引导腔室内的气流，避免反应气体在转盘的边缘与腔室内壁之间形成局部涡流，进而可以提高对基片化学处理的均匀性。
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来源：北方有色网
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