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PtSx高性能光电器件及其制备方法和应用

783   编辑:管理员   来源:北方有色网  
2023-03-19 08:04:03
本发明涉及一种PtSx高性能光电器件及其制备方法和应用,包括由下自上依次生长的基底、PtSx薄层、两个电极,所述基底的上表面生长有所述PtSx薄层,所述PtSx薄层的上表面设有所述两个电极,1≤x≤2,PtSx薄层通过化学气相沉积法,利用硫化氢气体、氢气和氩气的混合气体,在高温条件下硫化图形化金属铂薄层获得。光电器件通过图形化金属硫化和电极沉积工艺制备,可大面积制备PtSx薄膜和光电器件。本发明所公开的光电器件具有宽光电响应窗口,光电性能高,稳定好,检测灵敏度高,超高的外量子效率,制作简单,成本低,在光电子器件、气体传感器和电子器件领域具有极大的应用潜力。
声明:
“PtSx高性能光电器件及其制备方法和应用” 该技术专利(论文)所有权利归属于技术(论文)所有人。仅供学习研究,如用于商业用途,请联系该技术所有人。
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