本发明公开了一种高硅硅钢片的制作方法，涉及硅钢片生产技术领域，包括如下步骤：S1、取普通硅钢片；S2、在普通硅钢片表面涂硅层；S3、对涂层后的硅钢片进行高温扩散；S4、检测硅含量；S5、测试处理后的硅钢片的磁性能；本发明所公开的高硅硅钢片的制作方法，采用等离子化学气相沉积法在普通硅钢片表面涂硅层,温度低，时间短，工艺重现性好，表面光洁，化合物层可达10μm以上，并有非晶态形成，能满足0.1mm厚钢片达6.5％Si的要求，与相同底Si的无取向硅钢片相比，铁损P10/50降低50％以上，其它磁性能也大有改善。
声明：
“高硅硅钢片的制作方法” 该技术专利(论文)所有权利归属于技术(论文)所有人。仅供学习研究，如用于商业用途，请联系该技术所有人。
我是此专利(论文)的发明人(作者)
822
编辑：管理员
来源：北方有色网
咨询细节
