本公开的方法包括：工序(I)，对聚合物膜(1)照射由在回旋加速器中加速后的离子(2)构成的离子束，从而形成经该离子束中的离子碰撞后的聚合物膜；和工序(II)，对在工序(I)中形成的聚合物膜进行化学蚀刻，从而在聚合物膜中形成与离子碰撞的轨迹(3)对应的开口(4b)和/或通孔(4a)。在工序(I)中，在离子束的路径上的聚合物膜的上游和/或下游检测离子束的束电流值，并且基于检测出的束电流值控制离子束对聚合物膜的照射条件，使得离子对聚合物膜的照射密度为设定值。本公开的方法适合于多孔聚合物膜的工业生产。
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来源：北方有色网
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