本发明提供了一种获取保持环的最佳工艺参数的方法，包括：建立化学机械研磨系统的有限元分析模型，包括抛光垫、晶圆、设置在晶圆外围的保持环、以一定的压力将晶圆和保持环压在抛光垫上的夹持器；确定分析模型的边界条件，并将抛光垫、晶圆、夹持器和保持环的材料参数代入分析模型；将不同组的保持环的工艺参数分别代入分析模型，并计算出每一组的保持环工艺参数下晶圆的表面等效应力分布结果；对比所有组的表面等效应力分布结果，获得使晶圆边缘的应力峰值最小的一组工艺参数，从而可以对实际生产中所需确定的保持环工艺参数进行指导，以避免晶圆边缘的应力集中现象，最大程度的降低晶圆边缘的过度磨损，进而可以提高晶圆的抛光精度和利用率。
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来源：北方有色网
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