本发明公开了一种
锡掺杂氧化钼纳米薄膜及其制备方法和近红外光电探测器，该制备方法包括采用化学气相沉积法制备氧化钼纳米薄膜；将亚锡盐和还原剂加入盐酸溶液中混合制备插层溶液；再将插层溶液滴至氧化钼纳米薄膜上，在50～70℃环境下进行插层处理。以上制备方法操作简单，其中利用锡插层氧化钼，可减少氧化钼的禁带宽度，实现对近红外光子的高效吸收，所制得的锡掺杂氧化钼纳米薄膜体积大且厚度均匀，热稳定性好，可用于制备近红外光电探测器。
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“锡掺杂氧化钼纳米薄膜及其制备方法和近红外光电探测器” 该技术专利(论文)所有权利归属于技术(论文)所有人。仅供学习研究，如用于商业用途，请联系该技术所有人。
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来源：北方有色网
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