一种光学件表面污染物的测量装置及方法，属于光学精密工程领域。该装置包括精密电子天平、真空腔体、分子泵/机械泵、蒸发室、温控组件、石英微晶天平、四极杆质谱仪、紫外分光光度仪和化学膜镜片及夹具组成。该装置功能强大，能精密控制有机污染物微量挥发，精密测量真空环境气氛中有机污染物挥发浓度分压值和精密测量光学件表面污染沉积质量。该装置及测量方法将有机物挥发扩散沉积量与化学膜透过率变化相关联，建立光学系统中有机物污染与光学元件性能参数变化的规律研究，为激光装置洁净污染损伤控制提供技术参考。
声明：
“光学件表面污染物的测量装置及方法” 该技术专利(论文)所有权利归属于技术(论文)所有人。仅供学习研究，如用于商业用途，请联系该技术所有人。
我是此专利(论文)的发明人(作者)
1079
编辑：管理员
来源：北方有色网
咨询细节
