本发明属于材料表面包覆技术领域，尤其涉及一种原子层沉积前驱体用量的监测系统及其方法与应用，包括：椭偏仪或X射线反射仪，用于质控体和基体以监控包覆层厚度；气体流量计，用于实时控制气体流量；微分
电化学质谱，用于监控尾气成分；所述椭偏仪与原子层沉积反应腔相邻设置；所述质控体与所述基体设于所述原子层沉积反应腔内，进行包覆处理；所述气体流量计设于所述原子层沉积反应腔内壁，所述微分电化学质谱与所述原子层沉积反应腔的尾气系统相连。对反应程度进行实时检测和反应结束状态进行预判，保证了基体和前驱体充分接触反应，实现对反应进程的准确把控，对前驱体用量的精确控制，解决了ALD包覆生产中前驱体用量大和利用率低的问题。
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“原子层沉积前驱体用量的监测系统及其方法与应用” 该技术专利(论文)所有权利归属于技术(论文)所有人。仅供学习研究，如用于商业用途，请联系该技术所有人。
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来源：北方有色网
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