本发明提供一种利用光谱仪量测气体解离状态的量测方法及其装置。其原理主要藉由侦测管体内之气体解离状态，并藉由本装置计算出解离相对量值，俾于气体的主路径污染值过高时，由一第二路径适量释出被解离之反应气体，以排除该主路径之污染物其设置范围可应用于所有需量测气体解离状态之设备及/或装置，包括但不限于半导体、光电或面板等产业中的物理气相沉积设备、化学气相沉积设备或蚀刻设备等相关设备，也可直接设置于Remote Plasma Source(远端电浆源)设备内。另外，本发明也可应用在生技业、化学业及应用物理之相关行业的检验测试设备，更可进一步应用在以上相关行业之设备维修业的检验设备或测试平台。
声明：
“应用光谱仪来量测电浆气体解离状态的量测方法及其装置” 该技术专利(论文)所有权利归属于技术(论文)所有人。仅供学习研究，如用于商业用途，请联系该技术所有人。
我是此专利(论文)的发明人(作者)
746
编辑：管理员
来源：北方有色网
咨询细节
