本发明公开了一种光调制太赫兹分子检测器件的制备方法，此方法利用简单的化学组装、气液界面分离、热力学调控，通过烧结温度和时间调控，得到了无缺陷的
石墨烯薄膜结构。此薄膜具有极低缺的陷态结构，一方面具有良好的面电阻(10‑30Ω/□)，另一方面具有极好的光学响应性。将此薄膜贴附于石英表面并进行图案化，至于太赫兹光下，随着表面滴加分子浓度的增加，太赫兹透射光谱峰位会随之变化，因此可以制备成太赫兹分子检测器件，用于检测分子残留。
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来源：北方有色网
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