提出用于半导体加工中的超纯流体如液体酸混合和/或稀释的系统及方法。所述系统包括:第一和第二化学品分配器,用以盛装待混合的第一流体和第二流体;第一和第二化学品分配器间的过程通路,由此使所述第一流体和第二流体流过并相混生成一种混合流体,由此还使混合流体流向用户使用处;超声波发射装置(28),该装置(28)所处位置足以发出穿透混合流体的超声波,该装置(28)包括测量通过所述混合流体波速的装置并因此间接测出混合流体中第一流体和第二流体的混合量之比。
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“用于半导体加工的超高纯化学品的现场混合系统及方法” 该技术专利(论文)所有权利归属于技术(论文)所有人。仅供学习研究，如用于商业用途，请联系该技术所有人。
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来源：北方有色网
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