一种监控电子显微镜化学油污污染的方法，包括：建立短流程工艺，短流程工艺至少包括依次执行的金属阻挡层生长步骤、金属填充步骤以及金属平坦化步骤；在电子显微镜进行添加润滑油之后，选用短流程硅片，对刚好执行完金属阻挡层生长步骤后的硅片进行缺陷观察动作；将被观察的硅片按照所建立的短流程工艺流片到执行完金属平坦化步骤；在金属平坦化步骤后对硅片进行缺陷检查以确定被观察的硅片是否存在金属损伤缺陷。如果被观察的硅片不存在金属损伤缺陷，确定不存在电子显微镜化学油污污染。如果被观察的硅片不存在金属损伤缺陷，确定不存在电子显微镜化学油污污染。本发明可监控电子显微镜是否受到化学物污染，避免污染在线产品，为良率提供保障。
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“监控电子显微镜化学油污污染的方法” 该技术专利(论文)所有权利归属于技术(论文)所有人。仅供学习研究，如用于商业用途，请联系该技术所有人。
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来源：北方有色网
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