本发明公开了一种检测钨化学气相淀积设备异常情况的方法,涉及钨化学气相淀积的脉冲成核层工艺。包括以下步骤:对将进行钨薄膜淀积的晶圆置于扫描工具下,得到初始微细颗粒数,在钨化学气相淀积设备中通入
硅烷与六氟化钨气体进行还原反应,在晶圆表面生成钨薄膜,将表面已经生成钨薄膜的晶圆置于扫描工具下,对扫描工具设定信噪比和扫描精度对淀积过钨薄膜的晶圆表面进行扫描;将被扫描出钨薄膜表面微细颗粒数相比初始微细颗粒数增加的晶圆放入显微镜下观察,判断此微细颗粒是否气相成核钨微细颗粒以确定钨化学气相淀积设备是否出现异常。通过本发明方法可以精确地确定钨化学气相淀积设备是否出现异常,并且不影响工艺持续性。
声明：
“检测钨化学气相淀积设备异常情况的方法” 该技术专利(论文)所有权利归属于技术(论文)所有人。仅供学习研究，如用于商业用途，请联系该技术所有人。
我是此专利(论文)的发明人(作者)
1003
编辑：管理员
来源：北方有色网
咨询细节
