本发明公开了一种CrB
2涂层的制备方法。采用直流磁控溅射法，设计靶源磁场由位于靶面底部的环形磁铁与直线型磁铁组成，通过对靶源磁场的设计，使靶面不同位置具有不同的磁场强度，并对应的放置一系列样品，在各样品表面沉积CrB
2涂层，然后对各涂层进行性能检测，得到与所需CrB
2涂层性能最接近的CrB
2样品涂层，该样品在样品架上的放置位置即为待沉积基体的放置位置，从而实现所需性能涂层的制备。
声明：
“一种CrB2涂层的制备方法” 该技术专利(论文)所有权利归属于技术(论文)所有人。仅供学习研究，如用于商业用途，请联系该技术所有人。
我是此专利(论文)的发明人(作者)
801
编辑：管理员
来源：北方有色网
咨询细节
