本发明公开了一种半导体脉冲功率开关及其制备方法。开关由晶闸管单元p+npn+和晶体管单元n+npn+相间排列而成，阳、阴极侧均设有Al电极；其阴极侧的n+发射极的掺杂浓度为1×1020～1×1022cm－3，结深为15～25μm，晶体管单元n+npn+内的位于开关的阳极侧的n+发射极的掺杂浓度为1×1020～1×1022cm－3，结深为15～25μm，晶闸管单元p+npn+的p+发射极掺杂浓度为8×1017～5×1018cm－3，结深为1～5μm。本发明采用的可减小开通电压的薄发射极RSD结构，包括减薄p+发射区宽度和降低p+发射区掺杂浓度两方面。本发明在n型Si衬底上进行Al烧结，形成RSD薄发射极的阳极结构。与现有薄发射极形成工艺相比，本发明保证了薄发射极不在后续工艺中被破坏，并且降低了对设备的要求，节省了工序，并且不会引起RSD阴极面反型。
声明：
“半导体脉冲功率开关及其制备方法” 该技术专利(论文)所有权利归属于技术(论文)所有人。仅供学习研究，如用于商业用途，请联系该技术所有人。
我是此专利(论文)的发明人(作者)
1037
编辑：管理员
来源：北方有色网
咨询细节
