本发明属于集成电路用高纯金属熔炼与铸造技术领域，具体公开了一种
高纯铜及
铜合金铸锭的制备装置及方法，所述装置包括：熔炼炉腔，以及自上而下设置在熔炼炉腔内的熔炼装置、铸造装置；所述熔炼装置包括坩埚、流嘴组件、可移动式托盘，所述流嘴组件插装在所述坩埚底部开设的出料口中，所述可移动式托盘设置在所述坩埚出料口的下面；所述铸造装置包括铸模、底托，所述铸模的上端开口与所述坩埚出料口正对，所述铸模底部插装在底托中。本发明的整个装置结构紧凑简单、熔炼与铸造工艺简便可靠，有助于消除或减少铸锭组织中的气孔、疏松、夹杂等冶金缺陷，有效提高铸锭产品的良率和成材率，显著提升生产效率。
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“高纯铜及铜合金铸锭的制备装置及方法” 该技术专利(论文)所有权利归属于技术(论文)所有人。仅供学习研究，如用于商业用途，请联系该技术所有人。
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来源：北方有色网
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