一种高硅钢材料的制备方法，步骤包括靶材、金属基材表面清理；排除密闭容器内空气、通保护气；双辉光等离子预轰击靶材和基材，净化表面；等离子溅射、加热、保温；缓慢冷却取出。预轰击靶材、基材，去除表面吸附层、活化基材，交替升高基材电压、靶材电压，使靶材中的合金元素被离子轰击而溅射出来、扩散进入基材内部形成表面高硅钢层。“双辉光等离子表面冶金技术”制备高硅钢的工艺简单易行、可控性高、成本低、无污染且基体和表面的结合力高，适合大规模产业化生产；更重要的是该方法采用交替离子轰击、扩渗速度快，结合强度高，得到硅含量均匀分布或呈梯度分布的高硅钢材料，为制备更高品质的无噪音、低铁损的高硅钢产业化奠定基础。
声明：
“高硅钢材料及其制备方法” 该技术专利(论文)所有权利归属于技术(论文)所有人。仅供学习研究，如用于商业用途，请联系该技术所有人。
我是此专利(论文)的发明人(作者)
1114
编辑：管理员
来源：北方有色网
咨询细节
