本申请公开了一种高纯
碳化硅粉及其制备方法，属于
半导体材料制备领域。该高纯碳化硅粉的制备方法包括下述步骤：提供β碳化硅粉和/或α碳化硅粉作为初碳化硅粉料；将初碳化硅粉料重结晶，制得碳化硅多晶块；将碳化硅多晶块除碳提纯，制得高纯碳化硅粉；所述重结晶的温度不低于2500℃。本申请通过重结晶的方法提高制得的高纯碳化硅粉的纯度，无需经过
湿法冶金或酸洗步骤除杂，污染小、毒性小、操作性高；并且纯碳化硅粉在600‑799℃下通氧气的除碳提纯步骤使得碳化多晶块的去碳效果好、制得的高纯碳化硅粉的氧化程度低，高纯碳化硅粉用于生长碳化硅单晶的氧杂质影响小；该制备方法可制得纯度不低于99.9999％的高纯碳化硅粉，且高纯碳化硅粉的粒度可控。
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“高纯碳化硅粉及其制备方法” 该技术专利(论文)所有权利归属于技术(论文)所有人。仅供学习研究，如用于商业用途，请联系该技术所有人。
我是此专利(论文)的发明人(作者)
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编辑：管理员
来源：北方有色网
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