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技术参数
氧化镁工业中使用各种炉来煅烧菱镁矿或氢氧化镁滤饼。最常用的是MHF以及回转窑和立窑。MHF主要用于生产活性轻烧氧化镁，而回转窑和立窑生产硬烧和重烧级氧化镁。对于轻烧氧化镁的质量（即反应性、比表面积、烧失量、残余CO2）可以通过控制和改变每个炉膛的温度来调整，所以严格的温度控制非常重要。MHF通常在煅烧的所有阶段设定值±5℃。每个炉膛最多配备四个燃烧器，燃烧条件可以独立变化。自动通风和氧气监控设备提供对功率消耗和燃料需求的紧密控制，确保清洁燃烧。炉内的处理时间由轴的速度控制，轴的速度通过变速驱动装置改变，炉的进料速度控制炉膛上的床层深度。除尘器收集的灰尘可以通过输送系统返回到炉内，从而减少产品损失与废气。
菱镁矿的煅烧过程可分为三个阶段
第1阶段，预热区 通过炉内高温气将菱镁矿从环境温度预热到650℃左右。
第2阶段，煅烧区 当温度达到约750℃时，菱镁矿表层开始分解产生的二氧化碳。温度进一步升高，超过分解温度，分压超过一个大气压，分解过程可在颗粒内部进行。
第3阶段，冷却 煅烧后的菱镁矿冷却至650℃左右。
菱镁矿分解动力学有三个基本因素
1. 达到分解温度。
2.分解温度保持一定的时间，直到菱镁矿基本上分解成氧化镁为止。
3.分解过程中产生的二氧化碳气体及时从窑中去除，提高分解速度。
设备结构
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