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工作原理
OLS5100采用反射式共焦激光扫描技术，通过405nm激光二极管光源与高灵敏度光电倍增管构建光学系统。显微镜自动移动焦点获取多组共焦图像，基于非连续焦点位置（Z轴）与检测光强度（I）生成每个像素的光强变化曲线（I-Z曲线），峰值位置对应样品表面形貌，峰值强度数据则生成全焦面扩展图像。其双共焦系统结合不同孔径通道，可智能选择最佳数据采集模式，兼顾速度与精度。
应用范围
覆盖半导体封装缺陷检测、金属材料晶粒分析、锂电池电极微观结构表征及MEMS器件台阶高度测量等领域。在电子制造中，可无损分析PCB焊点虚焊；在材料科学领域，支持ISO25178标准的表面粗糙度测量，能捕捉纳米级划痕与腐蚀形貌；生物医学方面，可观察细胞培养支架的三维结构。设备兼容导电性差的高分子材料，无需喷金处理即可直接成像。
产品技术参数
光学系统：反射式共焦激光扫描+彩色DIC成像
激光波长：405nm，输出功率0.95mW
分辨率：XY方向0.12μm（50倍物镜），Z方向0.5nm
测量范围：单视野16μm-5,120μm，拼接模式达3600万像素
载物台：电动行程100×100mm，手动行程300×300mm
物镜：5X-100X LEXT专用物镜，支持SLMPLN系列超长工作距离物镜
产品特点
智能化操作：智能实验管理助手自动生成实验计划，数据自动填充至矩阵表格，减少人为误差；智能物镜选择助手通过三步评分推荐最优物镜，确保测量稳定性。
高效数据采集：4K扫描技术提升分辨率与信噪比，HDR模式增强低对比度样品成像，跳跃扫描缩短台阶结构测量时间。
多模态分析：支持彩色图像、激光共焦图像与3D形貌数据同步采集，兼容ISO4287线粗糙度与ISO25178面粗糙度标准。
无损检测：非接触式测量避免机械探针损伤样品，适用于柔性显示屏、透明薄膜等精密结构分析。
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