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工作原理
ContourGT-K0基于白光干涉技术（WLI），通过测量参考光与样品反射光的光程差生成干涉条纹，进而转换为表面高度数据。其核心原理利用两束相干光的光程差变化（每移动一个条纹间距对应约10⁻⁷米的光程差），以光波波长为单位实现纳米级精度测量。设备搭载布鲁克专利的64位多核处理软件Vision64™，可实时处理干涉信号并生成三维形貌图，确保数据采集与分析的高效性。
应用范围
该设备支持从微米级MEMS器件到宏观引擎部件的多样化样品测量。典型应用包括：半导体芯片表面缺陷检测、LED薄膜粗糙度分析、太阳能电池板表面形貌优化、触摸屏涂层均匀性评估及精密机械零部件的曲率半径测量。其非接触式设计避免了传统探针测量对样品的损伤，尤其适用于柔性材料、光学镜片及生物样本等敏感表面。
技术参数
垂直测量范围：0.1nm至10mm（闭环无拼接）
垂直分辨率：0.01nm（RMS重现性）
横向分辨率：0.08–13.1μm
放大倍率：0.5–200倍
视场范围：1903×2500μm至95×120μm
样品台移动：XY轴160mm/Z轴40mm
扫描速度：最高28.1μm/s
软件功能：支持多核数据拼接、自动化校准及用户自定义分析模板
产品特点
超高精度与灵活性：亚埃级垂直分辨率与毫米级量程覆盖，满足从纳米级粗糙度到宏观台阶高度的测量需求。
抗干扰设计：专利减震基座与高稳定性结构，适应生产车间等复杂环境。
智能化操作：Vision64™软件提供可视化界面与一键式分析工具，简化测量流程并支持批量数据处理。
模块化配置：可选配自动样品台、高速聚焦模块及多物镜转塔，适配不同规模实验室的检测需求。
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