设备基本原理与特点
1.基本原理
真空钼带炉该真空炉是用钼带作发热元件的真空电阻炉，在抽真空状态下，钼带电阻产生热量，使炉腔内产生高温，通过热辐射传导到材料上，适用于科研、军工单位对难熔合金如钨、钼及其合金的粉末成型烧结。主要应用于陶瓷、硬质合金、
复合材料等在真空或保护气氛中高温烧结，也可以供金属材料在高真空条件下的高温热处理或
贵金属材料的除气处理。
2.设备特点
1)采用卧式、侧开门结构:装、卸物料精度高，操作方便;
2)升温快:升温速率1~15℃℃/分钟(≤1600℃℃)，升温速率1~5℃℃/分钟(>1600℃℃)
3)温度均匀性好:平均温度均匀性为+5℃(5点测温，恒温区1000℃保温1h后检测);
5)安全性能好:采用HMI+PLC+PID程序控温，安全可靠;
主要技术参数
产品应用
本设备为周期作业式，可供石墨电极、陶瓷等在高温、高真空条件下进行烧结处理，也可在充入保护气氛情况下烧结，也可以对
碳纤维毡进行气氛保护提纯处理，烧结工艺在许多如合金行业、冶金行业等工业行业得到大量应用如硬质合金、耐火材料、粉未冶金、超高温材料烧成等都需要应用烧结工艺。如炭/炭刹车盘、炭炭板材、热压模具、高温发热体/紧固件、热场材料、石墨制品、碳纸、碳布、
石墨烯、碳米管、导热膜等。
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