设备介绍
真空RTP退火炉是一款真空度比较高的快速热处理管式炉，配有石英腔体和真空法兰，采用卤素灯加热，升温速度可达50℃/秒，PID自动控制，30段可编程序，它是专为半导体或
太阳能电池基片的退火而设计。该高温退火管式炉可在真空、气氛环境下，对样品进行快速热处理，主要应用于院校实验室、工矿企业实验室，如：薄膜沉积，不同材料快速退火、硅化、扩散、晶化和致密化等。
产品优势
卤素灯加热 升温速度快
加热元件采用卤素灯加热，升温速度可达50℃/秒
底部滑轨设计 实现快速冷却
炉子的底部安装有一对滑轨，可使炉子从炉管的一侧滑动到另一侧，以实现快速加热和快速冷却
30段高精度数字可编程
30段高精度数字可编程温度控制器，控温精度高，可达±1℃
技术参数
产品名称 RTP 快速退火炉
工作温度 900℃
控 制 器 LED(可选配LCD触屏)
炉 膛 开启式 滑道式
炉管尺寸 根据需求尺寸定制
加热元件 卤素灯
升温速率 ≤50℃/S
热 电 偶 根据实际需要设计来配
温度控制器 30段高精度数字可编程温度控制器
特殊要求
具体细节可根据客户需求定制(详情欢迎来电咨询我们)
1、可定制真空系统
2、可定制气路系统
3、其他特殊工艺需求
512 
咨询底价
