热舟蒸发源 / K Ce
热舟蒸发源是一种用于实现轻薄薄膜金属沉积的设备，特别适用于薄层沉积、光学涂覆、混合层沉积和金属电极接触等应用。该设备由高质量、高真空兼容材料制成，能够在超高真空环境下加热至250℃，确保沉积过程的稳定性和纯度。热舟蒸发源支持手动或马达驱动挡板，最大工作电流可达100A，可根据客户需求定制，满足多样化的薄膜制备需求。
我司提供的热舟蒸发源可以用来实现轻薄薄膜金属沉积.
我司提供的这款热舟蒸发源是由高质量，完全与高真空兼容材料构成，并且可以烘烤至250℃。
应用范围：
薄层沉积；
光学涂覆；
混合层沉积；
金属电极接触。
配置参数：
按照客户需求定制热舟蒸发源;
手动/马达驱动 挡板
超高真空下,可加热到250度
最大工作电流 100A
配备挡板
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