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工作原理：
通过下照式C型腔体设计，利用X射线穿透样品时因涂镀层厚度差异导致的能量衰减变化，结合EFP核心算法与多道脉冲分析系统，精准解析涂层成分及厚度数据。
应用范围：
广泛应用于制造业质量管控领域。
产品技术参数：
仪器尺寸为550mm×480mm×470mm，重量45kg，配备500mm×360mm×215mm样品腔及50mm×50mm XY轴工作台，承重达5kg。
产品特点：
高精度多元素分析：支持轻元素、重复镀层及同种元素不同层的成分解析，如钕铁硼磁铁的Ni/Cu/Ni/FeNdB镀层检测；
灵活测量能力：微焦X射线装置可聚焦至0.002mm²区域，变焦结构适配凹槽深度0-30mm的复杂工件；
高效操作体验：高精密微型滑轨实现XY轴0.005mm级定位精度，结合快速对焦系统，单点测试仅需数秒即可稳定输出数据。
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