立式管式炉
货号 : KT-VTF
最高温度
1800℃
炉管直径
50 / 60 / 80 / 100 毫米
加热区长度
300 / 450 / 600 / 800 毫米
简介
垂直管式炉是一种实验室设备，用于在受控大气条件下对材料进行高温处理。它由一根垂直方向的石英管组成，石英管封闭在一个加热室内，可以实现精确的温度控制和均匀的热量分布。这些炉子通常用于各种应用，包括热处理、淬火、退火、晶体生长和化学气相沉积（CVD）涂层。立式管式炉具有可编程温度控制器、真空密封功能和用于样品处理的专用附件等先进功能，为材料加工提供了多功能性和精确性。垂直管式炉能够产生可控气氛并达到高温，是研发、材料科学和工业应用领域的重要工具。
应用
垂直管式炉是一种多功能加热设备，可广泛应用于各行各业和实验室环境。对于需要精确温度控制并能在真空或受控气体环境下操作的工艺，它们尤其有用。
气淬试验：垂直管式炉通常用于气淬试验，将样品从高温快速冷却到冰水或油等淬火介质中。这使研究人员能够研究材料相变以及快速冷却对材料性能的影响。
热处理： 立式管式炉可用于各种热处理工艺，包括退火、回火和应力消除。这些工艺可提高材料的机械性能，如强度、硬度和延展性。
化学气相沉积（CVD）： 垂直管式炉用于 CVD 工艺，在气态环境中通过化学反应在基底上沉积薄膜。半导体行业通常使用这种技术来制造电子设备。
晶体生长：垂直管式炉用于晶体生长，晶体从熔融或气相中生长出来。这种技术用于生产光学、电子和其他应用领域所需的高质量晶体。
材料测试：立式管式炉用于材料测试，如热导率测量、熔点测定和相变。这些测试可提供有关材料特性的宝贵信息。
其他应用：垂直管式炉还可用于其他各种应用，包括
烧结
钎焊
煅烧
陶瓷
玻璃加工
实验室研究
原理
立式管式炉的工作原理是辐射传热。加热元件通常由二硅化钼 (MoSi2) 或
碳化硅 (SiC) 制成，位于垂直管的周围，发射红外辐射，被管内的样品吸收。这种辐射可均匀地加热样品，从而提供精确高效的温度控制。该炉的设计允许快速加热和冷却，因此适用于各种应用，包括材料合成、热处理和温度测量。
优点
垂直或倾斜定位炉腔：可进行各种实验，包括流化床加热、拉晶生长、淬火等。
多种机械功能： 这些功能包括样品悬挂、拉动、旋转和释放，为实验设置提供了多样性。
工作温度范围广： 最高工作温度最高温度可达 1800℃，应用范围广泛。
专门的连衣裙设备定制： 可根据特定的实验要求调整炉子。
双炉壳设计： 内外炉壳之间的强制气流可保持较低的炉面温度，确保安全。
PID 可编程温度控制： 出色的控制精度和稳定的加热性能，可选择远程和集中控制。
VTF Pro 触摸屏控制器： 方便用户进行程序设置、数据分析和配方管理。
安全功能： 过流保护、过温报警和热耦合检测，提高安全性。
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