有色金属分析检测设备

专业偏光显微镜 495     

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DM750P专业偏光显微镜是一款适用于岩片、玻璃、陶瓷、塑料、高分子材料等样品偏光特性常规观察和分析的设备。它支持透射和透反射观察配置，具备20mm视域的整体光路和LED光源照明。该显微镜配备360度旋转的专业偏光载物台，多种偏光专用检偏器和丰富的偏光零部件，可进行正交偏光和锥光偏光观察。4孔物镜转盘支持每个物镜的单对中，提供偏光专用目镜观察筒和目镜。此外，可配接荧光部件实现荧光观察分析，目镜筒具备360°旋转功能，便于多人共览。设备还可配接徕卡的ICC50图像采集模块或外置数码相机，实现高品质图像的采集和存储。

半自动智能数字式偏光显微镜 519     

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DM 4500P半自动智能数字式偏光显微镜是一款研究级设备，专为观察分析岩石薄片、玻璃、陶瓷、塑料、高分子材料等样品的偏光特性而设计。它具备集成式设计，固化透反射光轴，可调焦锥光勃式镜，1.6倍自动变倍系统和复消色差光路，支持25mm视野直径。配备6孔位手动物镜转盘和25mm直径偏光专用物镜，反射光可实现明场、偏光、干涉观察，透射光可实现明场、暗场、偏光、干涉、锥光观察。机身内置12V100W透反射照明电源，提供高级照明方式，并能自动记忆不同物镜和观察方式下的光强、光阑大小及聚光镜组合，实现快速恢复。

立体显微镜 501     

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LeicaM125、M165C、M205C和M205A是研究级立体显微镜，具备高变倍比和复消色差设计，提供卓越的图像质量和分辨率。M125变倍比为12.5:1，放大倍数8-100倍；M165C为16.5:1，7.3-120倍；M205C和M205A均为20.5:1，7.8-160倍。这些显微镜支持连续或分级变倍，具有良好的齐焦性，内置可调双光阑以优化景深和对比度。它们配备ESD防静电机身，放电时间小于2秒，可配电动调焦支架和多种照明方式。此外，可连接数码相机和摄像头，选配研究级透射观察载物台，以及多种倍数的物镜和目镜，以满足不同的观察需求。

立体显微镜 491     

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Leica Z6 APO立体显微镜是一款高性能的6:1变焦系统，专为高精密度检验和机器视觉系统一体化设计。它具备优异的对比度、色彩逼真度和完全复消色差的变焦系统及物镜，提供从0.57X到3.6X的变焦范围和7.1X到45X的光学放大率。其分辨能力从336LP/MM到702LP/MM，数值孔径从0.117到0.234，活动距离可达97mm或39mm。该显微镜适用于各种试验机的多样聚焦，提供逼真的色彩偏振用于光学检测，以及无畸变的同轴照明。它还具备电动聚焦（可选）、精细聚焦、可转换焦距位置、内装膜片和可变视角的复消色差ERGO管。

电镜原位原子力显微镜 485     

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EM-AFM可在SEM中同时提供原子力显微镜成像和纳米机械测量。它综合了这两种技术的优点，可高速获得高分辨率的三维图像，并且在微纳米和亚纳米尺度上实时观察纳米级力的相互作用，与常规SEM/FIB兼容，并与EDS, EBSD, WSD兼容。

全自动缺陷检测原子力显微镜 473     

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对于工程师来说，识别介质/平面基底的纳米级缺陷的任务是一个非常耗时的过程，ParkNX-HDM原子力显微镜系统可以自动缺陷识别，通过与各种光学仪器的联用可以提高缺陷检测效率，越来越多的行业需要超平的介质和基板来满足不断缩小的设备需求，ParkNX-HDM原子力显微镜系统具有业界低0.5埃噪音，并将与其真正的非接触式模式相结合实现亚埃级表面粗糙度的测试。

全自动晶圆检测原子力显微镜 582     

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高精度探针针尖变量的亚埃米级表面粗糙度测量，晶圆的表面粗糙度对于确定半导体器件的性能是至关重要的，对于先进的元件制造商，芯片制造商和晶圆供应商都要求对晶圆商超平坦表面进行更精确的粗糙度控制，通过提供低于0.5埃的业界低噪音，并将与其真正的非接触式是模式相结合，ParkNX-Wafer能够可靠地获得具有小针尖变量的亚埃米级粗糙度测量，Park的串扰消除还允许非常平坦的正交XY扫描，不会有背景曲率，及时在平坦的表面上，也不需要过多考虑扫描位置，速率和大小。

高真空原子力显微镜 250     

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ParkNX-Hivac通过为失效分析工程师提供高真空环境来提高测量敏感度以及原子力显微镜测量的可重复性。与一般环境或干燥N2条件相比，高真空测量具有准确度好、可重复性好及针尖和样本损伤低等优点，因此用户可测量各种故障分析应用中许多信号响应，例如扫描扩散电阻显微术(SSRM)的掺杂物浓度。ParkNX-Hivac使得真空环境中高精确度和高分辨率测量的材料科学研究远离氧气与其它药剂的影响，在高真空条件下执行扫描扩散电阻显微镜测量可减少所需的针尖-样本相互作用力，从而降低对样本和针尖的损伤。

全自动在线检测原子力显微镜 462     

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ParkSystems的PTR系列是针对全自动工业级线上的原子力显微镜解决方案，适用于（不限于）长形条、磁头万向节组件(HGA)级滑块以及单滑块的沉降自动测量。凭借着亚纳米级精确度、高重复精度以及高通量，PTR系列是滑块厂商提高整体产量的理想测量工具，硬盘驱动滑块制造业要求工具不仅可以快速且流畅地测量较为尖沉降，同时还要保证高标准的精确度。这便是ParkNX-PTR大展身手的领域。在超精确的较为尖沉降测量之外，自动化功能可较为大程度提高效率。

全自动晶圆探针式轮廓仪/台阶仪 493     

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P-170是cassette-to-cassette探针式轮廓仪，将行业领先的P-17台式系统的测量性能和经过生产验证的HRP®-260的机械传送臂相结合。这样的组合为机械传送臂系统提供了低成本，适用于半导体，化合物半导体和相关行业。P-170可以对台阶高度、粗糙度、翘曲度和应力进行2D和3D测量，其扫描可达200mm而无需图像拼接。

自动晶圆探针式轮廓仪/台阶仪 531     

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P-17可以提供纳米级到1000μm的2D和3D台阶高度的测量。这使其能够量化在蚀刻，溅射，SIMS，沉积，旋涂，CMP和其他工艺期间沉积或去除的材料。P-17具有恒力控制功能，无论台阶高度如何都可以动态调整并施加相同的微力。这保证了良好的测量稳定性并且能够精确测量诸如光刻胶等软性材料。

自动多模式光学轮廓仪 468     

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Zeta-388光学轮廓仪是自动化非接触式3D表面形貌测量系统，具有集成的隔震系统和灵活的配置，并配备了cassette-to-cassette的搬送系统，特别适合于自动化生产。该系统采用ZDot™技术和Multi-Mode(多模式)光学系统，可以对各种不同的样品进行测量：透明和不透明、由低至高的反射率、由光滑至粗糙的纹理，以及纳米至毫米级别的台阶高度。

多模式光学轮廓仪 370     

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Zeta-300光学轮廓仪是非接触式3D表面形貌测量系统，具有集成的隔震系统和灵活的配置。该系统采用ZDot™技术和Multi-Mode(多模式)光学系统，可以对各种不同的样品进行测量：透明和不透明、由低至高的反射率、由光滑至粗糙的纹理，以及纳米至毫米级别的台阶高度。

白光干涉仪 461     

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MicroXAM-800是用于3D表面形貌和粗糙度测量的非接触式的光学轮廓仪。MicroXAM-800是一款基于白光干涉仪的光学轮廓仪，采用相位扫描干涉技术（PSI）对纳米级特征进行测量，以及采用垂直扫描干涉技术（VSI）对亚微米至毫米级特征进行测量。MicroXAM进一步扩展了这些技术，它采用SMARTAcquire为新手用户简化了程序设置，并且采用z-stitching干涉技术可以对大台阶高度进行高速测量。MicroXAM-800的程序设置简单灵活，可以进行单次扫描或多点自动测量。

单点膜厚测试仪 470     

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KLA的Filmetrics系列利用光谱反射技术实现薄膜厚度的精确测量，其测量范围从nm-mm，可实现如光刻胶、氧化物、硅或者其他半导体膜、有机薄膜、导电透明薄膜等膜厚精确测量，被广泛应用于半导体、微电子、生物医学等领域。Filmetrics具有F10-HC、F20、F32、F40、F50、F60-t等多款产品，可测量从几mm到450mm大小的样品，薄膜厚度测量范围1nm到mm级。F3-sX可测试众多半导体及电介质层的厚度，可测大厚度达3毫米。F3-sX系列配置10微米的测试光斑直径，因而可以快速容易的测量其他膜厚测试仪器不能测量的材料膜层。

失效分析探针台 504     

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FA8失效分析探针台是专为失效分析实验室设计的一款量测设备，具光学特性、激光特性，设备结构稳定，系统性能优异，人体工程学设计，操作便捷，支持多功能升级，产品功能丰富齐全。

原位AFM in SEM 507     

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LiteScope™扫描探针显微镜（SPM），便于集成到各种扫描电子显微镜（SEM）中。互补SPM和SEM技术的结合（CPEM）可以进行复杂的样品分析，包括表面形貌、机械性能、电性能、化学成分、磁性等的表征。 还能与其他扫描电镜附件相结合，如聚焦离子束（FIB）或气体注入系统(GIS ）用于纳米/微结构的制备和表面改性可以对装配结构的快速和简单的3D检查。 同时，SPM和SEM测量能够在同一地点、同一时间、同一协调系统进行。

高精度纳米拉伸系统 382     

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高精度纳米拉伸压缩系统——KLA的NanoUTMT150纳米力学测试系统适用于对多种材料的微纳米力学特性进行表征。具备静态、动态拉伸等多种功能，连续动态分析模块提供一种操作简单且性能可靠的试验方法。在连续拉伸和压缩过程中的不同应变状态下，对材料的动态力学特性进行测试分析，可快速获得材料的储存模量、损耗模量、损耗因子等。采用设计特的纳米力学激励传感器，系统将简谐力叠加在静态力上，通过传感器内置的电容检测器，对振幅进行实时监控。

微力位移测试操纵系统 381     

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FT-MTA02是一款集微纳力学测试、微纳机械性能测试、微纳三维操纵及组装于一身的微机器人系统。高分辨力传感探针配合精度很高的三维移动台，能直接且同时准确测得5nN~100mN范围内的微力及1nm~26mm范围内的微位移。带有力传感的微钳能对于0～100um的物体进行拾取、移动、拉伸等操纵或组装。得益于模块化的设计，FT-MTA02能和许多仪器进行联用，例如：探针台、各类光学显微镜、工业产线集成等。非常适合于MEMS、材料、生物等领域的微纳力学测试及操纵等研究。

高频冲击式取土钻机 268     

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山东光启机械设备有限公司推出的QTZ-3型高频冲击式取土钻机，是一款专为土壤原状样采集、环境监测及农业地质调查设计的轻量化高效钻探设备。该机型采用高频冲击与低速回转复合技术，可在软土、砂层及含砾地层中快速获取无扰动土样，钻孔直径覆盖Φ50-100mm，深度达5米，广泛适用于农田土壤检测、污染场地调查及地质灾害隐患点勘察等场景，是环保机构、科研院所及地质勘探团队的理想工具。

汽油便携式取土钻机 263     

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山东光启机械设备有限公司推出的QTZ-1型汽油便携式取土钻机，是一款专为土壤调查、地质勘察（地层结构初探）设计的高效轻便型钻探设备。该机型以汽油发动机为动力源，集成模块化结构与人性化操作设计，整机重量仅25kg，单人即可携带至复杂地形，快速完成0-3米深度的土壤取样任务。

高温原位纳米压痕仪 361     

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InSEMHT（高温）通过在真空环境中单加热尖端和样品来测量高温下的硬度、模量和硬度。INSEM®HT与扫描电子显微镜（SEM）和聚焦离子束（FIB）或立真空室兼容。附带的InView软件可以协助开发新的实验。科学出版物表明，InSEMHT结果与传统大型高温试验数据吻合。广泛的温度范围使InSEMHT成为开发研究材料的一个非常有价值的工具。

综合原位纳米操作机 354     

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TNILF-2000是目前市面上基于SEM电镜下使用的自动化程度高的纳米操作系统，也是一种能够在SEM电镜下提供可重复定位、低漂移、闭环运动控制定位的纳米操作系统。LF-2000可以在原位条件下进行力学测量、电学测试、纳米物体拾取和装配、制作微纳米器件、纳米电子器件电学测量等。

高分辨纳米红外成像与光谱系统 434     

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Vista-IR高分辨纳米红外成像与光谱系统是由美国Molecular Vista推出的先进设备，专为满足纳米尺度下样品化学分析及成分鉴定的需求而设计。该系统依托于原子力显微镜平台，采用光诱导力显微镜（PiFM）技术，结合可调波长的红外光源，能够实现10nm以下的空间分辨红外成像与光谱采集，无需远场光学接收器及干涉仪。Vista-IR所采集的PiFM红外光谱与标准FTIR光谱高度吻合，便于与FTIR光谱图库中的数据进行对比分析。

全自动膜厚测试仪 383     

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KLA的Filmetrics系列利用光谱反射技术实现薄膜厚度的精确测量，其测量范围从nm-mm，可实现如光刻胶、氧化物、硅或者其他半导体膜、有机薄膜、导电透明薄膜等膜厚精确测量，被广泛应用于半导体、微电子、生物医学等领域。Filmetrics具有F10-HC、F20、F32、F40、F50、F60-t等多款产品，可测量从几mm到450mm大小的样品，薄膜厚度测量范围1nm到mm级。FilmetricsF60系列的产品可像F50产品一样测绘薄膜厚度和折射率，但它增加了许多用于生产环境的功能。

在线膜厚测试仪 390     

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KLA的Filmetrics系列利用光谱反射技术实现薄膜厚度的精确测量，其测量范围从nm-mm，可实现如光刻胶、氧化物、硅或者其他半导体膜、有机薄膜、导电透明薄膜等膜厚精确测量，被广泛应用于半导体、微电子、生物医学等领域。Filmetrics具有F10-HC、F20、F32、F40、F50、F60-t等多款产品，可测量从几mm到450mm大小的样品，薄膜厚度测量范围1nm到mm级。

立体显微镜 371     

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Leica EZ系列立体显微镜是高性能的变倍体视显微镜，具有优良的图像品质和连续变倍比，工作距离为100mm。它配备高眼点广视角目镜（10X/16X可选），适合戴眼镜者使用。光源采用多角度LED透反两用照明，具有超长使用寿命（不低于25000小时）、高色温（6500°K）、不发热且无紫外线和红外线辐射，60分钟自动关机，色温保持不变。显微镜机械精度高，调焦距轻松，结构稳定可靠，易于维护。

全手动式专业偏光显微镜 362     

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DM 2500P全手动式专业偏光显微镜是一款研究级显微镜，专为岩片、玻璃、陶瓷、塑料、高分子材料等样品的偏光特性高级观察分析设计。它采用模块化设计，支持透射和透反射配置，具备25mm视野直径的整体光路和5孔位手动物镜转盘，配备偏光专用物镜。反射光支持明场、偏光、干涉观察，透射光支持明场、暗场、偏光、干涉、锥光观察。机身内置12V100W透反射照明电源，支持手动光强调节，可连接100W卤素灯箱。显微镜设计考虑了偏光专用镜片的安放，确保整体和谐。

全手动实验级倒置金相显微镜 459     

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DMI LM倒置式显微镜是一款全手动实验级金相显微镜，主要用于反射观察，满足金相样品的常规检测分析需求。它具备20mm视野直径的整体光路，配备4孔位手动物镜转盘，提供内置35W卤素灯照明或外接100W变压器的卤素灯照明。该显微镜支持明场和偏光观察方式，可配接徕卡的各倍数物镜，以及固定式或三板移动样品台。此外，它还可以配接摄像头或数码相机等图像采集设备，实现图像存储，并配合分析软件进行图像分析。

正立式显微镜 483     

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Leica DM750M正立式显微镜是一款多功能的显微镜，适用于透射和反射观察，能够满足各种材料样品的常规检测分析需求。它具备20mm视野直径的整体光路，配备4孔位手动物镜转盘，提供LED照明，并支持明场、偏光及斜照明等多种观察方式。该显微镜可配接徕卡的各倍数物镜，以及一体化的ICC50图像采集模块，内置数码相机能够提供实时图像并采集存储，整体设计美观和谐。此外，它也可以配接外置数码相机进行图像采集。