广东有色金属物理检测设备

里氏便携式硬度计 358     

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DOHP200是一款采用工业级别3.9寸电阻触摸屏设计的便捷式里氏硬度计，整体菜单设计简洁，全触屏操作，可适配DC，C,DL,D+15,G型冲击装置，仪器能自动识别冲击装置类型；DOHP200可实时显示测量的极差值与平均值，换算值，测量方向，材料，统计点数；具有数据存储管理功能，支持500条数据存储，可与电脑软件连接导出数据，内置无线打印功能，与无线打印机连接可无线打印测量数据。

里氏便携式硬度计 364     

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Dohp100 是一款便捷式里氏硬度计，采用高亮度低功耗段码式LCD显示，界面可实时显示当前里氏硬度值，当前测量组里氏硬度值平均值，当前硬度换算值，当前硬度换算值平均值，测量方向，换算材料码，显示清晰；内置无线打印功能，与无线打印机连接可打印测量报告，仪器整体设计功耗低，采用3节7号干电池供电；传感器与主机采用雷莫接插，插拔方便耐用。

磁性涂层测厚仪 358     

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ETG12F1磁性涂层测厚仪是一款采用磁性法原理的无损检测仪器，内置嵌入式传感器，用于测量导磁性金属基体（如钢、铁等）上非磁性涂镀层（如油漆、陶瓷、橡胶等）的厚度。它适用于工业、电镀业、船舶、桥梁、航空、工程、化工等领域，操作简便，测量快速且精确。其特点包括传感器与主机一体式设计、灵敏的测量速度、低功耗（3节AAA电池供电）、128×64高亮点阵LCD显示、可存储500条数据。规格方面，测量范围为0-1250μm（0~50 mil），分辨率在0~999μm时为0.1μm，≥1000μm时为1μm，精度在0~100μm时为±2.0μm，101~1250μm时精度更高。

自动测量光学膜厚仪 274     

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F54-XYT-300 薄膜厚度测量仪采用光谱反射技术，能够高效测量最大200x200mm样品的薄膜厚度，具备电动XY工作台与多种预设及自定义测量坐标图案功能。其配备显微镜和实时摄像头，支持图案表面显微测量，适用于较粗糙材料。内置测绘图案生成器的FILMAPPER软件进一步提升了测量自动化水平。

探针式表面轮廓仪 267     

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KLA D600 探针式表面轮廓仪包括一个200mm自动样品载台和具有增强图像控制的光学器件。Alpha-Step轮廓仪体积小巧，专为高校、实验室和研究所设计，可为半导体和化合物半导体器件、LED、太阳能、MEMS、汽车和医疗行业提供台阶高度、粗糙度和应力测量。

椭圆偏振光谱仪 267     

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HORIBA UVISEL Plus 相位调制型椭圆偏振光谱仪基于新版的电子设备，数据处理和高速单色仪，Fastacq技术能够为用户提供高分辨及快速的数据采集。FastAcq为薄膜表征特殊设计，双调制技术使您可以获得完整的测试结果。

高精度镀层测量系统 343     

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Bowman B系列 XRF高精度镀层测量系统是博曼的基础机型和常规机型。该型号采用自上而下的测量方式。配备固定样品台可实现手动操作。测量时将样品放入样品仓，通过观察视频图像来对准屏幕上十字线内的位置来完成测量。

高精度镀层测量系统 334     

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BowmanK系列XRF高精度镀层测量系统在高度不超过9英寸(228mm)的工件上具有12英寸(304mm)x12英寸(304mm)可测量区域。自动多准直器允许选择光斑尺寸，以适应各种特征尺寸;可变焦摄像头允许在0.25英寸到3.5英寸的焦距范围内进行测量。伺服电机驱动的可编程平台可实现快速、准确的可编程样品定位。

激光粒径分布分析仪 376     

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HORIBA LA-960V2激光粒径分析仪是一种用于测量颗粒粒径分布的仪器，基于激光衍射原理。其测量范围覆盖10纳米至5000微米，并具备干法和湿法两种进样方式，可有效避免液体分散剂对样品的影响。

离心式纳米粒度分析仪 339     

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颗粒的粒度是按粒径大小分类后测量的，这是离心分离法的关键特点。因此，一次测量就能得到宽范围内的精度结果。HORIBA CN-300 离心式纳米粒度分析仪可提供两种测量方法:密度梯度模式和均一模式。

激光粒径分布分析仪 276     

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HORIBA 推出了SZ-100V2纳米颗粒分析仪。此仪器通过简单操作即可对纳米颗粒进行多参数分析！以技术简单而精确地呈现纳米粒子尺寸及分散体系的稳定性，为您开启纳米科技前进之门！

光学膜厚测量仪 290     

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Filmetrics F3-CS是一款专为微小视野及样品设计的薄膜厚度测量仪，适合生产线操作人员和技术人员使用。具备自动基准校正功能，简化了测量前的搭建和校准过程。用户只需设定薄膜上下层信息即可进行测量，支持数百种膜层类型，并能处理透明和不透明基材。通过升级FILMeasure软件，还可扩展反射率测试功能。该设备兼容多种操作系统，采用USB线实现电源供应及通信连接，提供全面的技术支持和服务。

薄膜厚度测量仪 246     

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使用Filmetrics F40 薄膜厚度测量仪。使用先校正显微镜的物镜，再进行测量，即可获得厚度及光学参数值。只要透过Filmetrics的C-mount连接附件，Filmetrics F40 薄膜厚度测量仪就可以和市面上多数的显微镜连接使用。C-mount上装备有CCD摄像头，可以让用户从电脑屏幕上清晰地看样品和测量位置。

自动Mapping膜厚测量仪 246     

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Filmetrics F50 自动Mapping膜厚测量仪依靠光谱测量系统，可以简单且快速地获得直径450毫米的样品薄膜的厚度分布图。采用r-θ极坐标移动平台，可以快速的定位所需测试的点并测试厚度，测试非常快速，大约每秒能测试两点。用户可以自己绘制需要的点位地图。Filmetrics F50 自动Mapping膜厚测量仪配置精度高使用寿命长的移动平台，以求能够做成千上万次测量。

椭圆偏振光谱仪 404     

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Auto SE是一款集成了液晶调制技术和反射式微光斑的全自动快速椭偏仪，具备高重复性和信噪比，适用于多种样品的快速薄膜测量与质量控制。其一键式操作界面简化了数据处理流程，同时提供自动MAPPING扫描功能以评估样品镀膜均匀性。该设备兼容200mm×200mm样品台，覆盖450-1000nm光谱范围，适合科研与工业生产中的非均匀及图案化样品测试需求。

白光干涉膜厚测量仪 344     

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Filmetrics F54 白光干涉膜厚测量仪能以一个电动R-Theta平台自动移动到选定的测量点以每秒测绘两个点的速度快速的测绘薄膜厚度, 样品直径达450毫米，可选择数十种内建之同心圆,矩形,或线性图案模式,或自行建立无数量限制之测量点.只需具备基本电脑技能，就可在数分钟内自行建立配方。

薄膜厚度测量仪测厚仪 355     

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Filmetrics F80-C膜厚测量仪采用厚度成像技术，提供快速、准确且经济的薄膜厚度测量解决方案。该设备无需复杂的移动硬件，能在29秒内完成300毫米晶片的21点扫描，适用于化学机械抛光、化学气相沉积等多种工艺。其自动化和直观的操作界面减少了人为错误，降低了成本，是晶片追踪工艺工程师的理想选择。

光学膜厚测量仪 248     

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美国Filmetrics公司的F60-C光学膜厚测量仪采用r-θ极坐标移动平台，能快速准确地测量各种晶圆尺寸上的薄膜厚度和光学常数n&k，适用于多种材料如氧化硅、氮化硅等。该设备支持自定义测试点，并能在短时间内完成大面积分布图测量，提供便捷的在线演示与技术支持服务。

薄膜厚度测量仪 241     

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F10-RT 薄膜厚度测量仪通过同时测量反射和透射光谱，实现真空镀膜的全面分析，具有成本低、操作简便、分析功能强等特点。此外，它还提供可选模块扩展功能，并配备完善的售后服务和技术支持。

单点光学膜厚测量仪 466     

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Filmetrics F20 薄膜厚度测量仪是一款先进的膜厚测量系统，能够测量从1nm到10mm的膜厚，并且可以同时测量折射率、反射率和穿透率。适用于单层或多层膜，无论是在平面还是弯曲表面，光斑最小可达20微米。F20具有模块化设计，易于安装和操作，通过USB连接电脑后，能在数秒内得出测量结果。其适用范围广泛，几乎涵盖了所有光滑、半透明或低吸收系数的薄膜材料，包括各种电介质、半导体材料等。该设备配备用户友好的软件界面，提供24小时电话、电子邮件和在线支持，确保用户能够高效准确地进行膜厚测量。

光学膜厚测量仪 346     

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Filmetrics-F40薄膜厚度测量仪是一款结合显微镜的薄膜测量系统，能够快速准确地测量薄膜的厚度和光学常数。该设备特别适用于需要在微小限定区域进行测量的应用，并且可以与市面上大多数显微镜连接使用。其优势包括桌面式设计、24小时技术支持以及直观的分析软件等。适用于半导体制造、生物医学原件、液晶显示器等多个领域的薄膜厚度测量。

多波长椭偏仪 250     

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第四代FilmSense FS-8 多波长椭偏仪使用长寿命的LED光源和无移动部件的椭圆偏振探测器。在便携的紧凑型系统中提供快速而可靠的薄膜测量。通过简单的1秒测量，可以以很高的精度和准确度测定大多数透明薄膜的薄膜厚度和折射率，并对样品进行光学常数、n&k值等薄膜性质的测量。

桌上型主动式隔振台 400     

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mini桌上型主动式隔振台采用全新设计，具备全频段出色的抗振动效果及六自由度主动减振功能。其LCD屏幕能显示加速度波形和频谱，并支持洁净室环境使用。设备自带自动调平与固定模式，且可通过USB接口进行数据传输和监控。适用于原子力显微镜、扫描探针显微镜等多种精密测量仪器。

白光共聚焦显微镜 356     

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KLA Zeta-20白光共聚焦显微镜基于ZDot技术而来。Zeta-20 白光共聚焦显微镜可以对大部分材料和结构进行成像分析，从光滑到高粗糙度、低反射率到高反射率表面、透明到不透明介质。KLA Zeta-20白光共聚焦显微镜使用模块化设计理念，为用户提供了一系列的硬件和软件选项来满足各种不同的测量需求，所有硬件安装和操作都简单易用。

白光共聚焦光学轮廓仪 448     

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KLA Zeta-388光学轮廓仪是非接触式三维表面形貌测量系统。该系统在Zeta-300光学轮廓仪的基础上，增加了用于全自动测量的机械手臂操作系统。Zeta-388光学轮廓仪采用ZDot技术和多模组光学系统，可测量各种不同的样品：包括透明与不透明、低至高反射率、光滑到粗糙的表面，以及亚纳米级到毫米级的台阶高度。KLA Zeta-388光学轮廓仪支持OCR和SECS/GEM，从而可用于全自动产线的生产制造。

椭圆偏振光谱仪 375     

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HORIBA Smart SE智能型多功能椭偏仪适用于单层和多层薄膜的精确表征和分析。该设备具备多角度测量能力，可灵活配置，并支持在线与离线模式切换。其技术参数包括450-1000nm的光谱范围和多尺寸微光斑自动选择光斑可视技术。主要特点是一键式操作、无运动部件的液晶调制技术和快速全谱输出的CCD探测系统。此外，它还支持多个微光斑尺寸选择和多角度测量，能够实现在线测量配置。

拉曼光谱仪 271     

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HORIBAScientific推出的LabRAMHREvolution是一款高性能拉曼光谱仪，融合智能自动化与多项技术，适用于研究与常规分析。其波长范围覆盖200-2100nm，支持全波长自动切换，具备高光谱分辨率和超低波数检测能力（低至10cm⁻¹）。配备真共焦显微光路和双光路设计，实现快速UV-VIS/NIR切换及高空间分辨率成像。搭配LabSpec6软件，提供强大的数据处理与分析功能，支持多种附件扩展，满足多样化样品测试需求。

光反射式膜厚仪 345     

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Filmetrics F32 光反射式膜厚仪特殊的光谱分析系统采用半宽的3u rack- mount底盘，加上附加的分光计，可达到四个不同的位置(EXR和UVX版本至多两个位置)。F32膜厚仪软件可以通过数字I/O或主机软件来控制启动/停止/复位测量。测量数据可以自动导出到主机软件中进行统计过程控制。还提供可选的透镜组件，以便于集成到现有的生产装置上。

自动光反射膜厚仪 289     

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Filmetrics F60-t 自动光反射膜厚仪就像我们的F50白光干涉膜厚测量仪产品一样。主要测绘薄膜厚度和折射率。但它增加了许多用于生产环境的功能。这些功能包括凹槽自动检测、自动基准确定、全封闭测量平台、预装软件的工业计算机，以及可以升级到全自动化晶圆传输的机型。

自动光学膜厚测量仪 470     

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Filmetrics F54-XY-200 自动光学膜厚测量仪借助光谱反射系统，可以测量尺寸达200 x 200mm样品的薄膜厚度电动XY工作台自动移动到选定的测量点并提供厚度测量，达到每秒两点。您可以从数十种预定义的极性，矩形或线性测量坐标图案中选择，也可以创建自己编辑的测量点数量。此桌面系统只需几分钟即可完成设置，任何具有基本计算机技能的人都可以使用。