本实用新型主要涉及一种用于
钕铁硼磁体的镀膜设备，专用镀膜设备的基本原理为双层辉光等离子表面冶金，其主要特点是结构包括真空室，真空室中部平行等距且相互绝缘的源极和阴极，源极和阴极外的隔热栅，真空室上方的阳极，真空室下方的氩气入口以及真空室后方的真空系统，真空室外的测温系统；表面生成的金属膜层厚度均匀且金属靶材的利用率高，整个镀膜过程中温度相对偏低，对磁体的损害较小，可控性强，无污染，对人体无损害，设备结构简单，靶材限制性小。
声明：
“用于钕铁硼磁体的镀膜设备” 该技术专利(论文)所有权利归属于技术(论文)所有人。仅供学习研究，如用于商业用途，请联系该技术所有人。
我是此专利(论文)的发明人(作者)
1098
编辑：管理员
来源：北方有色网
咨询细节
