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多层薄膜调制周期及其均匀性的测量方法

780   编辑:管理员   来源:北方有色网  
2023-03-19 08:58:30
本发明提供了一种多层薄膜调制周期及其均匀性的测量方法,是将氟化粉末压制成圆柱形靶块,表面加工成凹锥形,得氟化锂靶块;将氟化锂靶块安装至加速器的离子源的靶头处,引出负锂离子束流,充入氮气,使锂离子束在加速器管内经剥离气体碰撞剥离后得到二价的Li2+正离子束;再将待测量的多层薄膜放置在卢瑟福背散射测量靶室中的样品台上,用束流积分仪测量Li2+束的束流,形成RBS谱,进而得出多层膜的调制周期及均匀性信息。本方法用RBS测量薄膜的调制周期、元素分布和均匀性,其测量精度高,并且对样品没有损伤,是一种高精度、高品质的无损检测多层膜的方法。
声明:
“多层薄膜调制周期及其均匀性的测量方法” 该技术专利(论文)所有权利归属于技术(论文)所有人。仅供学习研究,如用于商业用途,请联系该技术所有人。
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