本实用新型公开了一种有效提高薄膜密度的卷对卷电子束镀膜设备,包括位于上方的卷绕室、下方的镀膜室。镀膜室与卷绕室通过镀膜主辊旁边的缝隙相连，所述卷绕室内设有卷绕系统、在线膜厚测试仪、等离子预处理系统，所述卷绕室顶部连有抽真空系统，所述镀膜室内设有电子枪系统、等离子体辅助系统、等离子监测系统、晶振仪、蒸发坩埚、偏转磁场系统。本实用新型能够有效克服成膜粒子在基底上迁移能力差所引起的致密度差的问题，具有蒸发速度快，成膜质量高的特点，还能有效地解决由于电子束的高能量改变沉积薄膜的化学计量比导致的阻隔性能的变差的缺点，利用反应性气体将金属元素转化为化学计量比稳定的高阻隔氧化物层，有效提高薄膜密度。
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来源：北方有色网
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