一种曝光设备和方法,可优化光致抗蚀剂膜的曝光,而与光致抗蚀剂膜因曝光而发生的化学反应无关。利用第1光致抗蚀剂膜和第1半导体片测量最佳曝光,并将获得的数据存到存储器中,然后用相同的曝光对第2半导体片上的第2光致抗蚀剂膜曝光,测量开始曝光时由第2光致抗蚀剂膜和第2半导体片的反射光强。读出存储的第1光致抗蚀剂膜和第1半导体片的最佳曝光时间数据,将它用作第2光致抗蚀剂膜和第2半导体片的最佳曝光时间。
声明：
“曝光方法和曝光设备” 该技术专利(论文)所有权利归属于技术(论文)所有人。仅供学习研究，如用于商业用途，请联系该技术所有人。
我是此专利(论文)的发明人(作者)
1160
编辑：管理员
来源：北方有色网
咨询细节
