本发明提供了一种
钙钛矿薄膜缺陷态的气相钝化方法，包括如下步骤：(1)采用物理化学法将钙钛矿前驱液涂覆于导电基底上，经退火处理后形成钙钛矿薄膜；(2)将步骤(1)所述的涂覆有钙钛矿薄膜的导电基底送入反应腔内；(3)将特定的电压加载于步骤(2)所述的导电基底上，进而实现向基底上涂覆的钙钛矿薄膜加载电压；(4)使用缓冲气体将用于缺陷态钝化的气体分子通入至步骤(2)所述的反应腔内，与步骤(3)所述的已加载电压的钙钛矿薄膜进行化学反应；(5)将步骤(4)所述的钙钛矿薄膜和气体分子的反应活性经原位表征系统进行检测，根据反应活性的检测结果即可判断钙钛矿薄膜缺陷态的钝化。所述方法是通过向钙钛矿薄膜施加电场，诱发钙钛矿薄膜缺陷态与气体分子发生化学反应，实现钙钛矿薄膜缺陷态的钝化。本发明具有条件可控、重复准确性高等优点。
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“钙钛矿薄膜缺陷态的气相钝化方法” 该技术专利(论文)所有权利归属于技术(论文)所有人。仅供学习研究，如用于商业用途，请联系该技术所有人。
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来源：北方有色网
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