一种晶圆清洗设备,用于化学机械抛光过程,包括固定所述晶圆的支撑架、以及位于所述晶圆表面的清洗刷,还包括至少一个探测装置,所述探测装置包括信号发生器和信号分析仪,所述信号发生器固定在所述清洗刷的转轴上,所述信号分析仪与所述信号发生器信号相连。本实用新型所述晶圆清洗设备包括探测装置,所述探测能够实时监控晶圆清洗过程,监测设备故障并及时报告,从而降低晶圆受损的几率,提高了晶圆的成品率。
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来源：北方有色网
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