在目标变量分析部(11)根据单体单元的共聚合反应性比算出已知共聚物样本的组成中单体单元的三元组分数从而求得目标变量，在波形处理部(12)进行NMR测定以及信号等的处理，在解释变量分析部(13)根据该已知样本的NMR测定中化学位移量以及信号强度得出解释变量，在模型建立部(14)根据偏最小二乘回归求得目标变量和解释变量的回归模型的回归式，求得回归模型的因子，在样本解析部(15)用所述回归模型，根据未知样本共聚物的NMR测定中的化学位移量和信号强度，用算出该未知样本中三元组分数的方法算出。通过使用这样得到的三元组分数的合计是共聚物中20摩尔％以下的光刻技术用共聚物，能够制备溶解性以及灵敏度优异的抗蚀剂组合物。
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“光刻技术用共聚物及其制造方法，抗蚀剂组合物，形成图案的基板的制造方法，共聚物的评价方法，共聚物组成解析方法” 该技术专利(论文)所有权利归属于技术(论文)所有人。仅供学习研究，如用于商业用途，请联系该技术所有人。
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来源：北方有色网
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