本发明公开了一种一维排列双面错嵌式三维探测器及其制备方法、阵列，包括第一沟槽电极和第二沟槽电极，第一沟槽电极刻蚀和第二沟槽电极分别刻蚀在第三半导体基体表面；第一沟槽电极内嵌有第一中央电极，第一中央电极和第一沟槽电极间填充有第一半导体基体；第二沟槽电极内嵌有第二中央电极，第二沟槽电极和第二中央电极间填充有第二半导体基体；第一沟槽电极和第二沟槽电极的外宽均为2R
X，第二沟槽电极位于第一沟槽电极下方，且两者垂直相距d3、水平相距Rx。通过吸杂氧化工艺在
芯片表面生成二氧化硅层，然后经标记与光刻将探测器图形转移到二氧化硅层上，再进行阴极电极和阳极电极的刻蚀和化学沉积扩散，最后进行损伤修复及封装。
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“一维排列双面错嵌式三维探测器及其制备方法、阵列” 该技术专利(论文)所有权利归属于技术(论文)所有人。仅供学习研究，如用于商业用途，请联系该技术所有人。
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来源：北方有色网
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