一种等离子体设备陈化方法和被应用该陈化方 法的等离子体设备。所述陈化方法包括以下步骤：在操作等离 子体设备执行等离子体工艺前、测量在等离子体设备的工艺室 中出现的基于硅氧化物(SiOX)的 化学物种的光发射强度与基于碳氟化物化合物 (CFY)的化学物种的光发射强度 的比；确定所测量的光发射强度比的值是否在正常状态的预定 范围内；以及，当基于确定结果为使得所测量的光发射强度比 的值在正常状态的预定范围内时，将待在等离子体工艺中使用 的反应气体供给到工艺室时，陈化工艺室的内部以改变反应气 体的成分比，并由此改变光发射强度比。
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来源：北方有色网
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